双光子,微纳3D打印,三维光刻,跨尺度微纳加工,自相关仪,自动显影机,飞秒激光加工,生物打印

MN-UV-Ultra

无掩模激光直写设备

无需掩模,可实现纳米级精度的三维加工

自主研发的超高速加工方式,便于工业应用

拥有极小的拼接误差

适用高达12英寸的基材

全自动控制系统

跨尺度微纳三维激光直写设备

主要技术参数

类型:Standard

最小线宽:0.8 µm

最小线间距:1 µm

边缘粗糙度:0.04 µm

结构均匀性:0.08 µm

对准精度(100*100 mm²):0.6 µm

最大加工速度:75 mm² /min

最大曝光面积:100*100 mm²

光源LED/Laser:405/365 nm