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基于多光子聚合原理的纳米级三维激光加工设备，将纳米级高精度与微纳3D加工完美结合，可实现跨尺度宏微结合的高精度微纳三维加工，满足工业级生产或科学研究设计建模的使用要求。

三维笼式细胞支架电子显微镜图

微透镜电子显微镜图

可用于工业生产的增减材结合的超快激光微纳加工设备，可实现光刻胶材料的三维增材以及金属、合金、玻璃等材料的打孔、表面结构处理、选择性激光消融、改性等功能。具有高精度、超高速度、长时稳定性、大幅面加工等特点，可广泛应用于微纳光学、生物医学、半导体、光通信等行业领域。

埃菲尔铁塔电子显微镜图

金属钼蜂巢通孔显微镜图

基于紫外光刻的无掩模激光直写光刻设备，无需掩模，具有高直写速度、高分辨率等特点，采用集成化设计、全自动控制，操作方便可广泛用于微流控、半导体、微电子等晶圆级的2D/2.5D微纳结构加工。

衍射光学元件电子显微镜图

电路板显微镜图

纳米级三维激光直写设备